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发表于 2025-2-13 09:46:47
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业界人士传出的消息指有家国产手机芯片企业已在国内一家芯片代工企业进行流片,验证这家芯片代工企业的5纳米工艺,这意味着国产5纳米工艺真的成为现实,依靠现有的设备有望实现5纳米工艺的量产。
业界人士还指出从流片情况来看,大规模生产已不是问题,只是良率稍低,大约为35%左右,不过当年台积电量产5纳米的时候,首次流片的良率也只有40%左右,这意味着国产芯片代工厂能达到如此良率已是相当成功了。
毕竟国产芯片代工企业是依靠现有的DUV光刻机生产5纳米,而台积电早在量产7纳米的时候就已引入了先进的EUV光刻机,国产芯片代工企业依靠现有的DUV光刻机将5纳米工艺的良率达到如此水平已是相当了不得了。
据悉该国产芯片代工企业以DUV光刻机量产5纳米,在于引入了多重曝光技术,同时还采用了自主研发的图形处理算法,特别是自主研发的图形处理算法有效提升了用DUV光刻机生产5纳米的良率,而台积电的资深技术人士认为用DUV光刻机生产5纳米可能导致良率过低,国产芯片代工企业能解决良率问题可以说是巨大的技术突破。
5纳米工艺实现量产,对于中国芯片来说具有极为重要的意义,全球实现了3纳米工艺量产的仅有三星和台积电,中国的芯片代工企业实现5纳米工艺,就与他们仅相差一代。 |
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