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发表于 2012-3-7 13:49:42
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本帖最后由 仰望 于 2012-3-7 14:55 编辑
建设发展公司合肥鑫晟电子器件厂房(京东方8.5代线)
1.1 变更项目名称
合肥鑫晟光电科技有限公司(京东方子公司)第8.5代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)项目
1.2变更项目地理位置
合肥鑫晟光电科技有限公司第8.5代TFT-LCD项目,选址位于合肥新站综合开发试验区站北新区,新蚌埠路东侧、龙子湖路以北、东方大道以南、大禹路以西,总用地面积647,333m2(约971亩,亩均投资强度2935万元),该区域为工业用地,主要用于发展平板显示产业。
1.3 变更项目概况
(1)建设单位:合肥鑫晟光电科技有限公司
(2)项目名称:第8.5代薄膜晶体管液晶显示器件(TFT-LCD)项目
(3)建设地点:安徽省合肥市新站综合开发试验区站北新区
(4)项目规划占地面积:647,333m2
(5)生产规模:变更项目生产规模未发生变化,项目建成后将形成阵列玻璃基板加工能力9万片/月,CF玻璃加工能力9万片/月,加工玻璃基板尺寸为2200mm×2500mm。
(6)产品规格和模组产能:变更前主要产品规格:23-26"W、32"W、47"W、52 -55"W液晶电视用显示模块,模块产能变更前为1308万块/年;变更后主要产品规格:9.7"、10.1"、15.6"、17.3"、32"、46"、55"液晶显示模块,变更后2175.6万块/年(以代表模组产品折算)。
(7)项目投资总额:由原来的272.80亿元(其中建设投资为245.50亿元,铺底流动资金为27.30亿元)增加到285亿元(其中建设投资259.60亿元,流动资金25.40亿元)。
(8)项目建设周期:24个月
(9)建设项目组成
拟建项目主要建设内容包括1栋阵列厂房、1栋成盒/彩膜厂房、1栋模块厂房,同时建设化学品车间、综合动力站、废水处理站、特气车间、玻璃及成品仓库等。建筑占地面积20.5万m2,总建筑面积65万m2,工程内容包括生产及辅助生产设施、综合动力供应设施、化学品和特种气体供应与输送系统、环保设施、消防设施、职业安全保护设施、管理服务设施等的建设。规划变电站和大宗气体站位于厂区的东北部,由专业公司及供电局负责建设。
(10)主要工艺变更情况
本项目TFT-LCD的生产工艺流程主要包括阵列(Array)、彩膜(Color Film,CF)、成盒(Cell)、模块(Module)四部分。
制程工艺变更:9万片/月产能中,保留3万片/月采用Al制程,其余6万片/月由Al制程改为Cu制程。
阵列工程采用IGZO(氧化铟镓锡)替代a-Si的金属氧化物技术技术。
采用铜制程的生产过程中,增加了干法剥离工艺,为缩短工艺时间,SF6使用量增加。工艺中不使用三氯化硼BCl3和三氟甲烷CHF3,使用CF4。
合肥鑫晟电子器件厂房建筑面积65万平方米,钢结构工程总量约为1.7万吨,最大单根柱重为17吨,本工程也是目前安徽省最大的工程,建成后将成为合肥打造光电产业基地的核心项目。
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